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温度对直流反应磁控溅射制备TiO2薄膜的光学性质的影响 会议论文
2005'全国真空冶金与表面工程学术会议论文集, 2005'全国真空冶金与表面工程学术会议论文集, 2005’全国真空冶金与表面工程学术会议, 2005’全国真空冶金与表面工程学术会议, 沈阳, 2005-07-14
Authors:  王贺权;  沈辉;  巴德纯;  汪保卫;  闻立时
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二氧化钛薄膜  直流反应  磁控溅射  温度  反射率  光学性质  
氧流量对直流反应磁控溅射制备TiO2薄膜的光学性质的影响 期刊论文
中山大学学报：自然科学版, 2005, 卷号: 44, 期号: 6, 页码: 36-40
Authors:  王贺权;  沈辉;  巴德纯;  汪保卫;  闻立时
Favorite  |  View/Download：479/44  |  Submit date：2009/12/09
用区熔技术改善多晶硅薄膜颗粒硅带衬底的质量 期刊论文
华南理工大学学报：自然科学版, 2005, 卷号: 33, 期号: 7, 页码: 28-31
Authors:  胡芸菲;  沈辉;  王磊;  邹禧武;  班群;  梁宗存;  刘正义;  闻立时
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总气压对直流反应磁控溅射制备TiO2薄膜的光学性质的影响 期刊论文
真空科学与技术学报, 2005, 卷号: 25, 期号: 1, 页码: 65-68
Authors:  王贺权;  巴德纯;  沈辉;  汪保卫;  闻立时
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温度对直流反应磁控溅射制备TiO2薄膜光学性质的影响 期刊论文
材料科学与工程学报, 2005, 卷号: 23, 期号: 3, 页码: 341-344
Authors:  王贺权;  沈辉;  巴德纯;  汪保卫;  闻立时
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靶基距对直流反应磁控溅射制备TiO_2薄膜光学性质的影响 期刊论文
真空, 2005, 卷号: 042, 期号: 001, 页码: 11
Authors:  王贺权;  沈辉;  巴德纯;  汪保卫;  闻立时
Favorite  |  View/Download：176/0  |  Submit date：2019/11/29
靶基距对直流反应磁控溅射制备TiO2薄膜的光学性质的影响 会议论文
第八届全国光伏会议暨中日光伏论坛, 第八届全国光伏会议暨中日光伏论坛, 深圳, 2004-11-15
Authors:  王贺权;  沈辉;  巴德纯;  汪保卫;  闻立时
Adobe PDF(190Kb)  |  Favorite  |  View/Download：695/200  |  Submit date：2011/07/26
二氧化钛薄膜  直流反应磁控溅射  靶基距  反射率