Knowledge Management System Of Guangzhou Institute of Energy Conversion, CAS
| 总气压对直流反应磁控溅射制备TiO2薄膜的光学性质的影响 | |
| 王贺权; 巴德纯; 沈辉; 汪保卫; 闻立时 | |
| 2005 | |
| 发表期刊 | 真空科学与技术学报
 |
| 卷号 | 25期号:1页码:65-68 |
| 合作性质 | 其它 |
| 收录类别 | 其他 |
| 语种 | 中文 |
| 文献类型 | 期刊论文 |
| 条目标识符 | http://ir.giec.ac.cn/handle/344007/494 |
| 专题 | 中国科学院广州能源研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 王贺权,巴德纯,沈辉,等. 总气压对直流反应磁控溅射制备TiO2薄膜的光学性质的影响[J]. 真空科学与技术学报,2005,25(1):65-68. |
| APA | 王贺权,巴德纯,沈辉,汪保卫,&闻立时.(2005).总气压对直流反应磁控溅射制备TiO2薄膜的光学性质的影响.真空科学与技术学报,25(1),65-68. |
| MLA | 王贺权,et al."总气压对直流反应磁控溅射制备TiO2薄膜的光学性质的影响".真空科学与技术学报 25.1(2005):65-68. |
| 条目包含的文件 | 下载所有文件 | |||||
| 文件名称/大小 | 文献类型 | 版本类型 | 开放类型 | 使用许可 | ||
| 总气压对直流反应磁控溅射制备TiO2薄膜（179KB） | 开放获取 | 使用许可 | 浏览 下载 | |||
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