Knowledge Management System Of Guangzhou Institute of Energy Conversion, CAS
| 温度对直流反应磁控溅射制备TiO2薄膜的光学性质的影响 | |
| 王贺权; 沈辉; 巴德纯; 汪保卫; 闻立时 | |
| 2005-07-14 | |
| Source Publication | 2005'全国真空冶金与表面工程学术会议论文集 ; 2005'全国真空冶金与表面工程学术会议论文集 ; 2005’全国真空冶金与表面工程学术会议 ; 2005’全国真空冶金与表面工程学术会议 |
| Source Publication | 2005'全国真空冶金与表面工程学术会议论文集 ; 2005'全国真空冶金与表面工程学术会议论文集 ; 2005’全国真空冶金与表面工程学术会议 ; 2005’全国真空冶金与表面工程学术会议 |
| Conference Date | 2005-07-14 |
| Conference Place | 沈阳 |
| Publication Place | 沈阳 |
| Funding Organization | 中国真空学会 |
| Other Abstract | 本文应用DC(直流)反应磁控溅射设备在硅基底上制备TiO2薄膜,在固定的电源功率下,过控制温度改变TiO2薄膜的光学性质，应用n&kAnalyzer1200测量,温度增加时薄膜的平均反射率降低同时反射低谷向长波方向移动，通过XRD和SEM表征发现,随着温度的增加TiO2的体结构由混晶变为单一的锐钛矿相,薄膜的表面的颗粒由多变少,表面形貌由粗糙多孔变得细腻平滑。 |
| Keyword | 二氧化钛薄膜 直流反应 磁控溅射 温度 反射率 光学性质 |
| Language | 中文 |
| Document Type | 会议论文 |
| Identifier | http://ir.giec.ac.cn/handle/344007/7956 |
| Collection | 中国科学院广州能源研究所 |
| Recommended Citation GB/T 7714 | 王贺权,沈辉,巴德纯,等. 温度对直流反应磁控溅射制备TiO2薄膜的光学性质的影响[C]. 沈阳,2005. |
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| 温度对直流反应磁控溅射制备TiO2薄膜的（424KB） | 开放获取 | -- | View Download | |||
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