Knowledge Management System Of Guangzhou Institute of Energy Conversion, CAS
温度对直流反应磁控溅射制备TiO2薄膜的光学性质的影响 | |
王贺权; 沈辉; 巴德纯; 汪保卫; 闻立时 | |
2005-07-14 | |
会议(录)名称 | 2005'全国真空冶金与表面工程学术会议论文集 ; 2005'全国真空冶金与表面工程学术会议论文集 ; 2005’全国真空冶金与表面工程学术会议 ; 2005’全国真空冶金与表面工程学术会议 |
会议(录)名称 | 2005'全国真空冶金与表面工程学术会议论文集 ; 2005'全国真空冶金与表面工程学术会议论文集 ; 2005’全国真空冶金与表面工程学术会议 ; 2005’全国真空冶金与表面工程学术会议 |
会议日期 | 2005-07-14 |
会议地点 | 沈阳 |
出版地 | 沈阳 |
会议主办者 | 中国真空学会 |
其他摘要 | 本文应用DC(直流)反应磁控溅射设备在硅基底上制备TiO2薄膜,在固定的电源功率下,过控制温度改变TiO2薄膜的光学性质,应用n&kAnalyzer1200测量,温度增加时薄膜的平均反射率降低同时反射低谷向长波方向移动,通过XRD和SEM表征发现,随着温度的增加TiO2的体结构由混晶变为单一的锐钛矿相,薄膜的表面的颗粒由多变少,表面形貌由粗糙多孔变得细腻平滑。 |
关键词 | 二氧化钛薄膜 直流反应 磁控溅射 温度 反射率 光学性质 |
语种 | 中文 |
文献类型 | 会议论文 |
条目标识符 | http://ir.giec.ac.cn/handle/344007/7956 |
专题 | 中国科学院广州能源研究所 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 王贺权,沈辉,巴德纯,等. 温度对直流反应磁控溅射制备TiO2薄膜的光学性质的影响[C]. 沈阳,2005. |
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温度对直流反应磁控溅射制备TiO2薄膜的(424KB) | 开放获取 | -- | 浏览 下载 |
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