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O/N比率对磁控溅射制备TiNxOy薄膜光学性质的影响 会议论文
纳米材料与技术应用进展--第四届全国纳米材料会议论文集, 纳米材料与技术应用进展--第四届全国纳米材料会议论文集, 第四届全国纳米材料会议, 第四届全国纳米材料会议, 山东烟台, 2005-10-01
作者:  王建强;  沈辉;  汪保卫
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反应磁控溅射  吸收率  沉积速率  Tinxoy薄膜  分光光度计  光学性质  
靶基距对直流反应磁控溅射制备TiO_2薄膜光学性质的影响 期刊论文
真空, 2005, 卷号: 042, 期号: 001, 页码: 11
作者:  王贺权;  沈辉;  巴德纯;  汪保卫;  闻立时
收藏  |  浏览/下载：147/0  |  提交时间：2019/11/29