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温度对直流反应磁控溅射制备TiO2薄膜的光学性质的影响
王贺权; 沈辉; 巴德纯; 汪保卫; 闻立时
2005-07-14
Source Publication2005'全国真空冶金与表面工程学术会议论文集 ; 2005'全国真空冶金与表面工程学术会议论文集 ; 2005’全国真空冶金与表面工程学术会议 ; 2005’全国真空冶金与表面工程学术会议
Source Publication2005'全国真空冶金与表面工程学术会议论文集 ; 2005'全国真空冶金与表面工程学术会议论文集 ; 2005’全国真空冶金与表面工程学术会议 ; 2005’全国真空冶金与表面工程学术会议
Conference Date2005-07-14
Conference Place沈阳
Publication Place沈阳
Funding Organization中国真空学会
Other Abstract  本文应用DC(直流)反应磁控溅射设备在硅基底上制备TiO2薄膜,在固定的电源功率下,过控制温度改变TiO2薄膜的光学性质,应用n&kAnalyzer1200测量,温度增加时薄膜的平均反射率降低同时反射低谷向长波方向移动,通过XRD和SEM表征发现,随着温度的增加TiO2的体结构由混晶变为单一的锐钛矿相,薄膜的表面的颗粒由多变少,表面形貌由粗糙多孔变得细腻平滑。
Keyword二氧化钛薄膜 直流反应 磁控溅射 温度 反射率 光学性质
Language中文
Document Type会议论文
Identifierhttp://ir.giec.ac.cn/handle/344007/7956
Collection中国科学院广州能源研究所
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GB/T 7714
王贺权,沈辉,巴德纯,等. 温度对直流反应磁控溅射制备TiO2薄膜的光学性质的影响[C]. 沈阳,2005.
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