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氧化钨多孔薄膜的制备及光学性质
黄志峰; 徐刚; 苗蕾; 黄春明
2009
发表期刊材料科学与工程学报
ISSN1673-2812
卷号027期号:006页码:855
摘要多孔结构可以使氧化钨薄膜的气敏、电致变色等性能得到增强,但目前多孔氧化钨薄膜的制备仍存在困难。本文采用W和Al双靶磁控溅射的方法得到了W-Al合金薄膜后,把合金薄膜浸入NaOH溶液中处理,其中的Al被腐蚀同时W被氧化,从而得到了多孔的氧化钨薄膜。利用SEM观察多孔氧化钨薄膜样品的表面形貌,用XPS分析样品中W的价态,用XRD分析样品的晶体结构,用紫外-可见-近红外分光光度计测量样品的光学性质。结果显示:制得的多孔氧化钨薄膜的平均孔径在100nm左右,呈海绵状疏松结构;薄膜中W的价态以+5价为主;薄膜属于非晶相;在可见光区域,多孔氧化钨薄膜具有较高的透过率,而在近红外区域则具有近似平直的透过率曲线。
语种英语
文献类型期刊论文
条目标识符http://ir.giec.ac.cn/handle/344007/21410
专题中国科学院广州能源研究所
作者单位中国科学院广州能源研究所
第一作者单位中国科学院广州能源研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
黄志峰,徐刚,苗蕾,等. 氧化钨多孔薄膜的制备及光学性质[J]. 材料科学与工程学报,2009,027(006):855.
APA 黄志峰,徐刚,苗蕾,&黄春明.(2009).氧化钨多孔薄膜的制备及光学性质.材料科学与工程学报,027(006),855.
MLA 黄志峰,et al."氧化钨多孔薄膜的制备及光学性质".材料科学与工程学报 027.006(2009):855.
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