中国科学院广州能源研究所机构知识库

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	靶基距对直流反应磁控溅射制备TiO2薄膜的光学性质的影响 会议论文 第八届全国光伏会议暨中日光伏论坛, 第八届全国光伏会议暨中日光伏论坛, 深圳, 2004-11-15 Authors:  王贺权;  沈辉;  巴德纯;  汪保卫;  闻立时 Adobe PDF(190Kb)  |  Favorite  |  View/Download：663/180  |  Submit date：2011/07/26 二氧化钛薄膜  直流反应磁控溅射  靶基距  反射率