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Cu2O薄膜磁控溅射制备及特性分析 | |
陈德明; 徐刚 | |
2007-11-15 | |
会议(录)名称 | 第六届中国功能材料及其应用学术会议论文集 ; 第六届中国功能材料及其应用学术会议论文集 ; 第六届中国功能材料及其应用学术会议 ; 第六届中国功能材料及其应用学术会议 |
会议(录)名称 | 第六届中国功能材料及其应用学术会议论文集 ; 第六届中国功能材料及其应用学术会议论文集 ; 第六届中国功能材料及其应用学术会议 ; 第六届中国功能材料及其应用学术会议 |
会议日期 | 2007-11-15 |
会议地点 | 武汉 |
出版地 | 武汉 |
会议主办者 | 中国仪器仪表学会 |
其他摘要 | 采用反应射频磁控溅射法,在氩-氧氛围制备Cu-O体系薄膜。在溅射功率、氩气流量一定的条件下,通过改变氧分压,得到不同成份的Cu-O体系薄膜。在氧分压较小条件下,薄膜中主要以金属铜为主,存在少量的Cu2O,随着氧分压的增加,Cu2O成分增加,在氧分压1.42×10-2pa时得到单相Cu2O薄膜。随着氧分压继续增加,Cu2O逐渐转变成CuO.薄膜成份通过X射线分析,薄膜电阻率采用四探针仪测量,薄膜光学特性采用紫外-可见光谱分析,并计算出本次实验所得单相Cu2O光学带隙为2.51eV. |
关键词 | 磁控溅射 氧化亚铜 光学带隙 铜氧化物 太阳电池 |
语种 | 中文 |
文献类型 | 会议论文 |
条目标识符 | http://ir.giec.ac.cn/handle/344007/8008 |
专题 | 中国科学院广州能源研究所 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 陈德明,徐刚. Cu2O薄膜磁控溅射制备及特性分析[C]. 武汉,2007. |
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Cu2O薄膜磁控溅射制备及特性分析.pd(192KB) | 开放获取 | -- | 浏览 下载 |
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