GIEC OpenIR  > 中国科学院广州能源研究所
多晶硅薄膜的制备与表征
胡芸菲; 沈辉; 梁宗存; 刘正义
2002-10-23
会议(录)名称中国第七届光伏会议论文集 ; 中国第七届光伏会议论文集 ; 中国第七届光伏会议 ; 中国第七届光伏会议
会议(录)名称中国第七届光伏会议论文集 ; 中国第七届光伏会议论文集 ; 中国第七届光伏会议 ; 中国第七届光伏会议
会议日期2002-10-23
会议地点杭州
出版地杭州
会议主办者中国太阳能学会
其他摘要以多晶硅片为衬底,在快热化学气相沉积(RTCVD)设备上,通过外延生长的方式制得多晶硅薄膜,并利用扫描电镜(SEM)、X射线衍射(XRD)等测试手段对薄膜的形貌结构及成分进行分析.
关键词多晶硅薄膜 化学气相沉积 颗粒硅带 外延生长 薄膜制备 形貌结构
语种中文
文献类型会议论文
条目标识符http://ir.giec.ac.cn/handle/344007/7940
专题中国科学院广州能源研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
胡芸菲,沈辉,梁宗存,等. 多晶硅薄膜的制备与表征[C]. 杭州,2002.
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