Knowledge Management System Of Guangzhou Institute of Energy Conversion, CAS
开口隔离层上多晶硅薄膜制备 | |
梁宗存; 柳锡运; 沈辉 | |
2004-11-15 | |
会议(录)名称 | 第八届全国光伏会议暨中日光伏论坛 ; 第八届全国光伏会议暨中日光伏论坛 |
会议(录)名称 | 第八届全国光伏会议暨中日光伏论坛 ; 第八届全国光伏会议暨中日光伏论坛 |
会议日期 | 2004-11-15 |
会议地点 | 深圳 |
出版地 | 深圳 |
会议主办者 | 中国太阳能学会 |
其他摘要 | 在SSP 硅带衬底上制备开口SiO2 隔离层,在隔离层上沉积多晶硅薄膜籽晶层;然后以ZMR 将制备的多晶硅薄膜区融、进行再结晶,制备了SSP 隔离层上多晶硅薄膜,并制备了多晶硅薄膜电池。研究结果表明:ZMR 对籽晶层的区融、结晶效果比较理想,晶粒尺寸增大到厘米级长、毫米级宽;经过晶硅薄膜沉积后,开口隔离层的孔洞未完全被多晶硅薄膜层覆盖住;制备的电池的光特性参数Voc、Isc 、FF 都比较低,电池的最高转换效率为3.83﹪;指出了改进的工艺措施。 |
关键词 | 多晶硅薄膜电池 颗粒硅带 薄膜沉积 |
语种 | 中文 |
文献类型 | 会议论文 |
条目标识符 | http://ir.giec.ac.cn/handle/344007/7900 |
专题 | 中国科学院广州能源研究所 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 梁宗存,柳锡运,沈辉. 开口隔离层上多晶硅薄膜制备[C]. 深圳,2004. |
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