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N2、O2对磁控溅射TiOyNx选择性吸收薄膜光学性质的影响 | |
陈达; 汪保卫; 沈辉 | |
2003-09-01 | |
会议(录)名称 | 全国第三届纳米材料和技术应用会议论文集 ; 全国第三届纳米材料和技术应用会议论文集 ; 全国第三届纳米材料和技术应用会议 ; 全国第三届纳米材料和技术应用会议 |
会议(录)名称 | 全国第三届纳米材料和技术应用会议论文集 ; 全国第三届纳米材料和技术应用会议论文集 ; 全国第三届纳米材料和技术应用会议 ; 全国第三届纳米材料和技术应用会议 |
会议日期 | 2003-09-01 |
会议地点 | 南京 |
出版地 | 南京 |
会议主办者 | 中国材料研究学会 |
其他摘要 | 光谱选择性吸收薄膜的制备是太阳能集热器高效吸收太阳能的关键技术.本文就磁控溅射制备氮化钛膜中N<,2>、O<,2>流量变化对溅射过程及膜的性能的影响进行了讨论. |
关键词 | 氮氧化钛 吸收率 发射率 光谱选择性吸收薄膜 光学性质 太阳能 |
语种 | 中文 |
文献类型 | 会议论文 |
条目标识符 | http://ir.giec.ac.cn/handle/344007/7886 |
专题 | 中国科学院广州能源研究所 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 陈达,汪保卫,沈辉. N2、O2对磁控溅射TiOyNx选择性吸收薄膜光学性质的影响[C]. 南京,2003. |
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N2、O2对磁控溅射TiOyNx选择性吸(168KB) | 开放获取 | -- | 浏览 下载 |
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