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| 在圆管基材上制备光催化剂薄膜的旋转浸渍提拉法; 在圆管基材上制备光催化剂薄膜的旋转浸渍提拉法 | |
| 在圆管基材上制备光催化剂薄膜的旋转浸渍提拉法; 在圆管基材上制备光催化剂薄膜的旋转浸渍提拉法 | |
| 梁园园; 何明兴; 李新军; 王良焱; 张琦; 黄琮; 郑少健 | |
| 2006-08-16 | |
| 公开日期 | 2004-06-23 ; 2011-07-13 |
| 授权国家 | 中国 |
| 专利权人 | 中国科学院广州能源研究所 |
| 专利类型 | 发明 ; 发明 ; 公开 ; 公开 ; 发明 ; 公开 |
| 专利类型 | 发明 ; 发明 ; 公开 ; 公开 ; 发明 ; 公开 |
| 其他摘要 | 本发明涉及一种在圆管基材上制备光催化剂薄膜的旋转浸渍提拉法，它包括下列步骤：(a)圆管基材的清洁和干燥处理；(b)根据光催化剂薄膜结构的需要在圆管基材上制备或不制备SiO2底层薄膜法；(c)采用溶胶凝胶法按规定配方配制浓度为0.2-2.5摩尔/升的光催化剂溶液；(d)以轴向运动速度1-5mm·s-1、径向旋动速度100-400转·min-1将圆管基材在浓度为0.2-2.5摩尔/升光催化剂溶胶中旋转浸渍提拉制膜，湿膜在70-50℃干燥10-2 |
| 专利类型 | 发明 ; 发明 ; 公开 ; 公开 ; 发明 ; 公开 |
| 申请日期 | 2002-12-11 |
| 语种 | 中文 |
| 申请号 | 02149602.1 |
| 专利代理人 | 赖汉光:广州科粤专利代理有限责任公司 |
| 文献类型 | 专利 |
| 条目标识符 | http://ir.giec.ac.cn/handle/344007/5170 |
| 专题 | 中国科学院广州能源研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 梁园园,何明兴,李新军,等. 在圆管基材上制备光催化剂薄膜的旋转浸渍提拉法, 在圆管基材上制备光催化剂薄膜的旋转浸渍提拉法[P]. 2006-08-16. |
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