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基体上自洁净、超亲水性光催化薄膜的制备方法; 基体上自洁净、超亲水性光催化薄膜的制备方法
基体上自洁净、超亲水性光催化薄膜的制备方法; 基体上自洁净、超亲水性光催化薄膜的制备方法
李新军; 王良焱; 李芳柏; 郑少健; 张开坚
2005-07-20
公开日期2003-06-04 ; 2011-07-13
授权国家中国
专利权人中国科学院广州能源研究所 ; 攀枝花钢铁有限责任公司钢铁研究院
专利类型发明 ; 发明 ; 公开 ; 公开 ; 发明 ; 公开
专利类型发明 ; 发明 ; 公开 ; 公开 ; 发明 ; 公开
其他摘要本发明涉及基体上自洁净、超亲水性光催化薄膜的制备方法,它依次包括如下步骤:(a)用洗液或溶剂将基体材料清洗干净;(b)基体材料放入反应器中,在100~500℃温度下加热5-60分钟;(c)分别通载气或抽真空、通镀膜原材气体、通载气或抽真空、通水蒸汽各2-100分钟,并重复多次。基体上形成的薄膜具有自洁净、超亲水性、稳定性、均匀性、耐磨性;防霉杀菌、该表面被污染后可以自洁净,或容易被清洗;该方法操作方便,低成本。本方法的用途很广,基体可以是玻璃、陶瓷、不锈钢。
专利类型发明 ; 发明 ; 公开 ; 公开 ; 发明 ; 公开
申请日期2001-11-29
语种中文
申请号01129992.4
专利代理人赖汉光:广州科粤专利代理有限责任公司
文献类型专利
条目标识符http://ir.giec.ac.cn/handle/344007/4956
专题中国科学院广州能源研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
李新军,王良焱,李芳柏,等. 基体上自洁净、超亲水性光催化薄膜的制备方法, 基体上自洁净、超亲水性光催化薄膜的制备方法[P]. 2005-07-20.
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